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应用领域:晶圆制造和先进封装领域 晶圆尺寸:100m~300mm 设备配置:
- 2~4个loadport - 4~8个清洗腔 - 晶圆翻转功能,依次背面和正面清洗 - 配有背面刷洗和边缘刷洗 - 氮气雾化二流体清洗 工艺指标:
- PA ≤20ea@0.09μm; - PRE ≥97%@0.09μm - Metal contamination ≤5E9 atoms/cm2
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