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单片湿法刻蚀清洗设备(SC3100系列)

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单片湿法刻蚀清洗设备(SC3100系列)

  • 产品描述
  • 应用领域:RCA清洗,沉积前清洗,蚀刻后清洗,CMP后清洗,湿法刻蚀,EPI前清洗等
    晶圆尺寸:300mm
    工艺应用:颗粒去除、金属污染去除、有机物污染去除、湿法去胶、前道及后道清洗、氧化物刻蚀及去除、铝互连清洗、铜互连清洗

    设备配置:

    产能:300片/小时

    8腔体 

    4FOUP
    可配置药液:DHF,SC1,SC2,DIO3,DICO2,IPA,背喷配置可供选择

    自动换液,补液

    加热控制,浓度控制,流量控制,压力控制等
    过温保护,漏液检知,分类排放
    全面支持SECS/GEM通讯协议

所属分类:

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