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槽式湿法刻蚀清洗设备(BC3100系列)

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槽式湿法刻蚀清洗设备(BC3100系列)

  • 产品描述
  • 工艺覆盖:RCA清洗,GATE清洗,氧化层清洗,湿法去胶等
    设备类型:Cassetteless-type
    晶圆尺寸:300mm
    设备配置:

    产能(晶圆间距):50片晶圆(25片晶圆/FOUP*2)/5mm半间距

    支持化学液C.C.S.S.、L.C.S.S;
    Marangoni dry ,LPD dry;
    自动换液,补液;
    加热控制,浓度控制,流量控制,压力控制等;
    过温保护,漏液检知,分类排放;
    全面支持SECS/GEM通讯协议
    工艺指标:

    蚀刻均匀性:<3%;
    颗粒控制: 

    增加值<30颗@60纳米,裸硅
    金属离子:

    <1E9 atoms/cm2

所属分类:

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