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槽式湿法刻蚀清洗设备
- 产品描述
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应用领域:RCA清洗,湿法去胶,介质层湿法刻蚀,金属层湿法刻蚀,炉管前清洗等
设备类型:Cassette-type & Cassetteless-type
晶圆尺寸:100mm~300mm
设备配置:- 支持化学液C.C.S.S.、L.C.S.S;
- Marangoni dry 或 spin dry;
- 自动换酸,自动补液、配液;
- 加热控制,浓度控制,流量控制,压力控制等;
- 槽体过温保护,各单元配置漏液传感器;
- 支持化学液回收;
- 全面支持SECS/GEM通讯协议。
工艺指标:- 蚀刻非均匀性:片内:≤4%;
片间:≤4%;
批次间: ≤4%;
颗粒控制:- 增加值<30颗@0.09微米(带氧化硅膜测试,来料颗粒<50颗)
金属离子:<5E9 atoms/cm2
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