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昆山智程研发出第四代卧式离心甩干机
11-06
昆山市智程自动化设备有限公司研发出第四代卧式离心甩干机
半导体晶片湿法清洗工艺中，干燥也是非常关键的步骤之一。如果干燥时效果不好，将会导致晶片被再次污染，以及留下水痕，这些将会对芯片生产的良率造成很大影响，将会导致晶片的重新返工清洗，严重时甚至造成芯片报废。
清洗后，如果保证晶片的清洁干燥，也是半导体清洗工艺中的难点之一。目前市面上的干燥方法主要包括离心干燥，IPA，Marangoni干燥等。由于其广泛的适用性和高效的产能，离心干燥是目前用的最多的干燥方法。
离心甩干机又分为立式甩干机和卧式甩干机，相对于卧式甩干机来说，立式甩干机转速高，产能低;卧式甩干机因为其高效的产能目前已被大多数工艺采取。
卧式甩干机原理如下，主要是利用转盘高速旋转时的离心力，快速清除芯片表面的水珠，达到干燥的目的：
昆山市智程自动化设备有限公司在卧式离心甩干机方面拥有一支独立的研发团队，多年以来，卧式离心甩干机已历经多次更新换代，于最近终于迎来了第四代产品。在原有第三代卧式甩干机的基础之上，昆山智程的研发团队再一次进行了全面的升级：新产品拥有更小的震动，更低的噪音，更快的干燥速度，更小的particle增加量，更广泛的使用条件，更低的能耗，以及更多元化的满足客户需求。
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